氧化鈮旋轉靶采用等離子噴涂工藝制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。
氧化鈮平面靶采用冷壓燒結工藝制得，一般綁定在銅背板上使用，尺寸及純度根據客戶要求定制。


純度：99.99%；電阻率（20°C）：≤ 0.1Ω.cm。
應用領域：LOW-E鍍膜玻璃，薄膜太陽能電池，TFT-LCD，半導體電子，光學鍍膜，裝飾鍍膜。


詳細資料點擊下載